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以基于光學技術的先進處理能力支持水環境保護。《UV氧化水處理設備》
UV氧化水處理設備旨在分解和去除待處理的廢水和純水中的有機物,可以進行現有技術無法實現的深度處理,從水處理到 此外,它還用作系統的一部分,用于去除超純水生產中的低分子量有機物,以及用于超純水生產的廢水回收再利用系統。
根據有機物的濃度,有以下幾種紫外線氧化分解方法。
廢水系統
- 高濃度型
TOC濃度:幾10s到幾100s ppm
(與氧化劑一起使用)
*高濃度類型可以處理從廢水到純水的所有內容。
生產系統
- 低密度254型
TOC濃度:0.1-10ppm
(含氧化劑)
- 低濃度185型
TOC濃度:0.5-100ppb
特征
三倍的處理能力和三分之一的功耗。
低壓汞燈的光譜能量分布非常適合用作氧化劑的過氧化氫和臭氧的光譜吸收特性,可以進行有效的氧化分解。為此,與傳統的高壓汞燈相比,在燈功率相同的情況下,處理水中的有機物濃度(TOC值)下降速度快了三倍。而且,如果進行同樣的處理,功耗將降低到1/3。
安裝空間減半,擴展容易。
使用緊湊、重量輕的單元式圓柱形不銹鋼反應器。安裝面積不到使用水箱式水箱的高壓汞燈的一半。此外,如果您想增加處理能力,您可以通過簡單地堆疊多個層來響應。
易于維護。
燈管功率僅為常規燈管的1/3,水溫升高極小,燈管本身無需冷卻裝置。易于維護。此外,由于燈泡結構緊湊且水平發光,因此更換燈泡很容易。
運行成本是有效的。
除電費外,全年可實現顯著降低效果。
應用示例
- 生產半導體、電子零件等所需的超純水,去除廢水回收再利用系統中的有機物
- 化學、生物技術、精密設備用超純水中有機物去除/核電冷卻沸騰用超純水中有機物去除
- 廢水中有機氯化合物的分解與去除
- 此外,去除各種工業廢水中的有機物
工業廢水處理及UV氧化水處理設備存在的問題
當今工業廢水處理技術主要有混凝沉淀等物理分離處理和生物處理(活性污泥法等),是目前的現狀。
但是,雖然生物處理方法確實便宜,但是不能被生物體分解的有機物,例如半導體工廠的洗滌廢水(表面活性劑、有機氯化合物等)和染料廢水,是不能被處理的,BOD不會減少。 ,但 COD 沒有減少。
我們的UV(紫外線)氧化水處理設備采用紫外光能進行處理,因此與現有技術相比,處理設備更緊湊,所需的設施空間更小,操作極其簡單。
廢水處理設施
廢水回收回用系統
廢水處理設備
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清潔不影響水質的自來水**器。以低功耗實現快速紫外線**。